Движение дислокаций.
Движение дислокаций оказалось ключевым понятием, которое позволило успешно применить дислокационную модель для объяснения снижения прочности кристаллов в тех случаях, когда другие ранее использовавшиеся модели оказывались неудовлетворительными. Чтобы пояснить идею движения дислокаций, рассмотрим простую краевую дислокацию. При приложении касательного напряжения τ эта положительная краевая дислокация движется по кристаллу слева направо вдоль плоскости скольжения.
Рис. 10 Движение краевой дислокации
Окончательный эффект состоит в том, что дислокация передвигается при полных затратах внешней энергии, много меньших, чем потребовалось бы для разрыва связей при одновременном смещении всех атомов, расположенных выше плоскости скольжения. Эта ситуация примерно аналогична следующей. Тяжелый ковер, лежащий на полу, очень трудно сдвинуть, прикладывая к нему силу. Гораздо легче образовать сначала складку и передвигать ее, пока складка не схлопнется, дойдя до другого края ковра. Окончательным итогом в обоих случаях будет смещение всего ковра. Точно так же происходит смещение и при движении дислокации вдоль плоскости скольжения.
В металлах образование пластических деформаций начинается уже при сравнительно небольших нагрузках. Среди множества хаотически ориентированных кристалликов всегда находится некоторое количество неблагополучно расположенных или даже имеющих внутренние дефекты, вследствие которых возможны остаточные изменения уже при сравнительно небольших силах в пределах упругой зоны диаграммы растяжения. Число таких кристалликов, однако, невелико, и местные пластические деформации не сказываются заметным образом на общей линейной зависимости между силой и перемещением, свойственной первой стадии нагружения образца.
При достаточно больших силах пластические деформации в образце становятся преобладающими. Необратимые сдвиги происходят в большинстве кристаллов в их наиболее слабых плоскостях, особенно если последние имеют направление, близкое к плоскостям максимальных касательных напряжений в образце. Это находит свое выражение в образовании полос скольжения.
При растяжении образца соседние кристаллы взаимодействуют между собой, и возникшее в одном кристалле пластическое смещение не может возрастать неограниченно, так как оказывается блокированным соседним, более удачно ориентированным кристаллом. Этим обстоятельством и объясняется возникновение зоны упрочнения и некоторое увеличение растягивающей силы при наличии пластических деформаций.
Не следует, однако, думать, что с вытяжкой число дислокаций уменьшается. Напротив. Каждый кристаллик взаимодействует с соседними, и возникают новые дислокации. Если дислокация не находит выхода и упирается в соседний кристаллик, то к месту блокировки подходят следом новые и новые. Дислокации в этом месте накапливаются. Но несколько непосредственно соседствующих дислокаций - это уже микротрещина, которая по мере увеличения растягивающих напряжений способна начать расширяться. В структуре материала возможно существование микротрещин и по условиям кристаллизации.
Получается, что процесс разрушения имеет в своей основе два взаимообусловленных и взаимоконкурирующих механизма, "борющихся" за право разрушить образец. Первый механизм - образование пластических деформаций путем сдвига по определенным кристаллографическим плоскостям. Второй - образование и развитие трещин с последующим разрывом. Иногда верх берет первый, иногда - второй.
Возвращаясь к закону разгрузки, следует указать, что в результате приложения к образцу внешних сил в кристаллах возникают смещения атомов не только на целое число позиций, но сохраняется также и некоторое искажение кристаллической решетки. Следовательно, наряду с пластической деформацией существует и упругая. При разгрузке форма искаженной решетки восстанавливается, т.е. снимается упругая деформация. Пластическая же деформация, понятно, не восстанавливается.
Весьма существенно, что процесс снятия упругой деформации происходит по тем же законам изменения внутри-кристаллических сил, что и в начальной стадии нагружения образца. Поэтому прямая разгрузки параллельна прямой начального нагружения.